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ÃæºÐÇÑ È¯±â ¹× ÅëdzÀÌ µÈ »óÅ¿¡¼­ º¸°ü
¹ÐÆóµÈ Àå¼Ò¿¡¼­ º¸°ü ¹× »ç¿ë±ÝÁö
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¹Ì¼¼ÇÑ ºÒ²É¿¡µµ Á¡È­
È¥ÇÕ°¡½º
(Mixed Gases)
½Ç¸°´õ

Ar+H2, Ar+CO2, Ar+O2, CO2+O2, CO2+O2+He, CH2+Ar, He+N2
Co+ O2+ N2, H2+N2

·¹ÀÌÀú, Ư¼ö¿ëÁ¢, ÀÇ·á¿ë, Ư¼öºÐ¼®±â±â, ¿ëÇØ·Î.
Á¶¸í¹æ»ç´É ÃøÁ¤, ´©¼³°Ë»ç µî

ÀüÀڹݵµÃ¼¿ë°¡½º
(Semicoductor Gases)

¹úÅ©
¸®ÄÜ
½Ç¸°´õ

Ar, H2, N2, O2, He, Sicl4, AsH3, B2H6, PH3, CF4, C2F6, CHF3, HF, SF6, BCl3, NH3, N2O, HCl, WF6

Carriers, Silicon Source, Dopant, Etchant, Reactant

¼ø¼öƯ¼ö°¡½º
(Pure Specialty Gases)

½Ç¸°´õ O2 (99.99%, 99.999%)
N2 (99.999%, 99.9999%)
Ar (99.999%, 99.9999%)
He (99.999%, 99.9999%)
H2 (99.999%, 99.9999%)

°¢Á¾ºÐ¼®±â, ¼®À¯È­Çаø¾÷, ȯ°æºÐ¾ß, ÀÚµ¿Â÷»ê¾÷
¹ÝµµÃ¼»ê¾÷, Àü±¸ºÀÀÔ¿ë ±Ý¼ÓÀÇ ºÐ±¤ºÐ¼®±â µî

Ç¥Áذ¡½º
(Standard Gases)

½Ç¸°´õ NOX+N2, SO2+N2
CO2+N2, HCL+N2, O2+N2

ȯ°æ ¹× ´ë±â¿À¿° ÃøÁ¤, ÀÚµ¿Â÷ ¹è±â°¡½º ÃøÁ¤,
¼®À¯È­ÇÐ Á¦Á¶°øÁ¤ °ü¸®¿ë ºÐ¼®±â, °¢Á¾ºÐ¼®±â¿ë Ç¥Áذ¡½º ½ÇÇø½Ç ¿¬±¸¿ëµî

Èñ±Í°¡½º ¹× ÃÊ°í¼øµµ °¡½º
(Rare Gas & Ultra High Purity Gases)

½Ç¸°´õ Kr, Ne, Xe,
ÃÊ°í¼øµµ O2, N2, Ar, H2, CO2, He
ÀÇ·á¿ë, Àü±¸º» ÀÔ¿ë, ·¹ÀÌÀú, °øÁ¤¿ë
(Process Gas) ¿µ»óÀåÄ¡(LCD, PDP),
À¯¸®»ê¾÷, ½ÇÇ迬±¸¿ë µî